НИТУ 'МИСиС' Минобрнауки РФ TOKYO BOEKI База данных по материаловедению. Материалы XXI века
База данных по материаловедению. Материалы XXI века

Рисунок 3 – Ионное напыление в низком вакууме

Для получения покрытия оптимальной толщины при работе на приборе магнетронного типа (рисунок 4) используются номограммы, приведенные на рисунке 5.

Рисунок 4 – Устройство напыления магнетронного типа производства компании JEOL

Рисунок 5 – Номограммы определения толщины покрытия для различных типов мишеней