Список контрольных вопросов
Страница 12 из 17
Лекция 6.
1.Расположите по порядку этапы исследования материалов в РЭМ:
Пробоподготовка;
Исследование;
Выбор режима;
Выбор объекта;
Постановка задачи.
2. Рельеф поверхности образца изучают:
в режиме вторичных электронов;
в режиме отраженных электронов;
в сигналах рентгеновского излучения;
в оже электронах.
3. Пространственное разрешение улучшается:
при увеличении ускоряющего напряжения;
при уменьшении рабочего расстояния;
при увеличении диаметра апертурной диафрагмы.
4. Снижение повреждаемости образцов достигается путем:
нанесения покрытия;
понижения ускоряющего напряжения;
уменьшения времени экспозиции;
фотографирования большей площади образца с меньшим увеличением.
5. При увеличении относительного размера пучка после конденсорной линзы…:
улучшается разрешение;
увеличивается ток зонда;
увеличивается повреждаемость образца.
