НИТУ 'МИСиС' Минобрнауки РФ TOKYO BOEKI База данных по материаловедению. Материалы XXI века
База данных по материаловедению. Материалы XXI века

Лабораторная работа № 2. Знакомство с пользовательским интерфейсом растрового электронного микроскопа

Выбор оптимального рабочего расстояния

Рабочее расстояние WD (рисунок 9) может быть увеличено за счет механического перемещения столика с образцом в направлении от объективной линзы с расфокусировкой изображения образца либо уменьшением силы тока в обмотках объективной линзы (при этом опускается положение фокальной плоскости – точки, куда сходятся отдельные траектории электронов).

Рисунок 9 – Схема обозначения рабочего расстояния (WD) в колонне микроскопа

Увеличение рабочего расстояния приводит к увеличению диаметра пучка на поверхности образца, при этом ухудшается пространственное разрешение, ток зонда остается прежним; апертурный угол объективной линзы уменьшается с ростом рабочего расстояния, что дает увеличение глубины фокуса.

Большие рабочие расстояния приводят к длинным путям пробега пучка, что либо увеличивает время получения снимка, либо приводит к снижению увеличения (увеличению шага между положениями пучка) для достижения прежней скорости съемки (рисунок 10).

Итоговое правило работы таково: чем больше рабочее расстояние и меньше размер диафрагмы объективной линзы, тем больше глубина фокуса Для исследования образцов с выраженной топографией используют наименьшую диафрагму и наибольшее рабочее расстояние. Для исследования образцов в высоком разрешении используют минимальное рабочее расстояние.