НИТУ 'МИСиС' Минобрнауки РФ TOKYO BOEKI База данных по материаловедению. Материалы XXI века
База данных по материаловедению. Материалы XXI века

9.3.1 Дифракция из выбранной области

Как вы можно видеть на рис 9.12А, дифракционная картина содержит электроны от всей площади образца, освещаемой пучком. Прямой луч часто имеет настолько высокую интенсивность, что это может повредить экран ПЭМ или ПЗС-камеру, если мы используем ее для просмотра. Поэтому, при выполнении основных операций в ПЭМ, мы выбираем определенную область образца, вносящую свой вклад в дифракционную картину, и снижаем интенсивность прямого пучка в дифракционной картине на экране. Если вы посмотрите на рисунок 9.12А, есть два способа уменьшения освещенной области образца, вносящей вклад в дифракционную картину.

  • сделать более тонкий пучок

  • вставить апертуру над образцом, которая позволит достичь образца только электронам, проходящим через нее

  • Первый вариант заключается в задействовании С2 и/или С3 линзы для формирования сходящегося пучка на образце. Данный подход используется при формирования дифракции в сходящемся пучке. Сходимость пучка разрушает его параллельность, и четкие дифракционные пятна размываются в диски. Если мы хотим получить дифракционную картину в параллельном пучке электронов, стандартным способом реализовать этого, является использование селекторной диафрагмы. Однако мы не можем вставить диафрагму в плоскость образца объективной линзы. Но если поместить диафрагму в плоскость сопряженную с образцом, т. е. в одном из плоскостей изображения линз проекционной системы, то она создаст виртуальную диафрагму в плоскости образца. Эта операция называется дифракцией из выбранной области (рис. 9.12.А).

    Сопряженная плоскость, которую мы выбираем является плоскостью изображения объективной линзы. Как показано на рисунке 9.13, мы получаем дифракцию из выделенной области, вставляя селекторную апертуру в плоскости изображения объективной линзы и центрируя эту апертуру относительно оптической оси в середине экрана ПЭМ.

    Последовательность операций № 4 Получение дифракции из выбранной области

  • выберите режим изображения, таким образом чтобы вы могли видеть изображение вашего тонкого образца на экране ПЭМ.

  • Разведите пучок путем недофокусировки C2 линзы.

  • Убедитесь, что апертурная диафрагма объективной линзы выдвинута из колонны. Контрастность изображения образца будет плохой, и будет трудно сфокусироваться.

  • Вставьте селекторную диафрагму. Стоит начать с выбора самой крупной из доступных диафрагм, чтобы легко найти апертуру на экране ПЭМ (количество апертур может варьироваться от 3 до 5 в зависимости от конкретного изготовителя).

  • Если при введении селекторной апертуры экран гаснет и вы ничего не видите, диафрагма, которую вы выбрали не находится точно на оси, и необходимо снизить увеличение изображения, пока вы не увидите отверстие и переместите его центр на оптическую ось.

  •